一、企业概况：
　　郑州晶元电子科技有限公司（晶元电子）是专业从事“平板状氧化铝研磨抛光微粉”（WTA 系列产品）的生产、研发、销售于一体的科技型企业，已通过ISO：9001-2000国际质量标准，具有国际先进水平的生产线和的员工队伍，拥有 Coulter Multisizer II型粒度分析仪和其它精密的质控仪器。该产品填补了国内在高档磨料上的空白，改变了我国长期依赖进口的局面，现已稳定地供应给美国、日本、韩国、马来西亚、台湾地区以及国内众多企业。
　　
　　二、产品介绍：该研磨抛光微粉是以工业氧化铝为主要原料，采用特殊矿化剂、高温控制晶粒形状及大小，经特殊处理和严格的分级而制成。硬度仅次于金刚石，是非常优异的精密研磨抛光、研磨微粉。
　　
　　1、平板型氧化铝研磨抛光微粉的性能：平板型氧化铝研磨抛光微粉颗粒呈独特的平板状结构，硬度高达莫氏九级，磨削力强，不易产生划痕，可得到高效率、高精度的被加工表面，有特殊设计的粒度分布，质量同日本 FUJIMI公司的PWA和美国Microgrit 的WCA相当。
　　
　　2、平板型氧化铝研磨抛光微粉的特点
　　1）平板型氧化铝研磨抛光微粉与其它氧化铝研磨抛光微粉的Zui大区别是：片状，硬度高，粒度均匀。
　　2）特点为：
　　A、形状为平板状，即片状，使磨擦力增大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间，如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍；
　　B、由于形状为平板状，故对于被磨对象（如半导体硅片等）来说不易划伤，合格品率可提高10%至15%，如半导体硅片，其合格品率一般能达到99%以上；
　　C、由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高，故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少，如果磨同样数量的产品，其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%；
　　D、与国外同类产品相比，质量达到或超过国外同类产品，品质已达到，但产品价格只有国外同类产品的60%--70%；
　　E、由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能，故加工的产品合格品率高，质量稳定，生产成本只有原来的50%-60%。（具体数据可见用户报告）
　　
　　3、平板型氧化铝研磨抛光微粉的用途：
　　1）电子行业：半导体单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体（砷化镓、磷化铟）的研磨抛光。
　　2）玻璃行业：硬质玻璃和显象管玻壳的加工。
　　3）涂附行业：特种涂料和等离子喷涂的填充剂。
　　4）金属和陶瓷加工业。
　　
　　氧化铝（Al2O3）性能指标：
　　物理指标：
　　化学名称外观密度莫氏硬度显微硬度
　　Al2O3白色 3.96-3.98g/cm3 9.0 2200-2300kg/mm

产量：

60000公斤/月

形态：

固体

磨料：

刚玉

分散剂：

悬浮助剂

WTA3：

3.0±0.3 μM

WTA 5：

4.8±0.3 μM

WTA 9：

6.2±0.5 μM

WTA12：

8.0±0.8 μM

WTA 15：

10.5±1.0 μM

WTA 20：

14.5±1.0 μM

WTA 25：

17.2±1.1 μM

WTA 30：

20.5±1.5 μM

WTA 35：

25.4±1.6 μM

WTA 40：

30.0±2.0 μM

DID地址

地址:郑州市惠济区江山路双桥村

联系人：雷霆  电话：0371-63841678 18638171699